Akademický rok 2021/2022 |
Garant: | prof. RNDr. Josef Humlíček, CSc. | |||
Garantující pracoviště: | ÚFI | |||
Jazyk výuky: | čeština | |||
Cíle předmětu: | ||||
Hlavním cílem kurzu je využitím přednášek odborníků z praxe umožnit studentům - vyjmenovat a popsat jednotlivé kroky při výrobě a zpracování polovodičových materiálů - aplikovat základní znalosti fyziky za účelem fyzikální a chemický popis výrobních postupů |
||||
Výstupy studia a kompetence: | ||||
Student získá přehled v oblasti technologií v polovodičovém průmyslu a použitých metodách. | ||||
Prerekvizity: | ||||
Fyzika pevných látek, chemie |
||||
Obsah předmětu (anotace): | ||||
V kurzu je věnována pozornost jednotlivým krokům při výrobě a zpracování polovodičových materiálů. Pozornost je věnována fyzikálnímu a chemickému popisu jednotlivých procesů |
||||
Metody vyučování: | ||||
Předmět je vyučován formou přednášek, které mají charakter výkladu základních principů a teorie dané disciplíny. | ||||
Způsob a kritéria hodnocení: | ||||
Předmět je ukončen kolokviem a závěrečnou samostatnou prácí |
||||
Vymezení kontrolované výuky a způsob jejího provádění a formy nahrazování zameškané výuky: | ||||
  | ||||
Typ (způsob) výuky: | ||||
Přednáška | 13 × 3 hod. | nepovinná | ||
Osnova: | ||||
Přednáška | - Přehled technologie výroby Si desek - Růst monokrystalů křemíku - Defekty v Si - Analýza povrchů ve výrobě polovodičů - Dekontaminace a leštění povrchu Si desek - Přehled postupu výroby integrovaných obvodů - Oxidace Si desek a difuze příměsí - Chemické a plazmochemické depozice vrstev z plynné faze - Fotolitografie vrstev, leptání SiO2 - Plazmochemické leptání vrstev, depozice kovových vrstev - Aplikace statistických metod v průmyslu |
|||
Literatura - základní: | ||||
1. KERN, Werner. /Handbook of Semiconductor Wafer Cleaning Technology:Science, Technology, and Applications/. New Jersey, U.S.A.: Noyes Publications, 1993. 623 s | ||||
2. KITTEL, Charles. /Úvod do fyziky pevných látek : Introduction to solid state physics (Orig.)/. 1. vyd. Praha: Academia, 1985. 598 s | ||||
3. WOLF, Stanley a Richard N. TAUBER. /Silicon Processing for the VLSI Era/. Sunset Beach, California, U.S.A.: Lattice Press, 1999. 960 s. Vol. 1: Process Technology |
Zařazení předmětu ve studijních programech: | |||||||||
Program | Forma | Obor | Spec. | Typ ukončení | Kredity | Povinnost | St. | Roč. | Semestr |
B-FIN-P | prezenční studium | --- bez specializace | -- | kol | 2 | Volitelný | 1 | 3 | Z |
N-FIN-P | prezenční studium | --- bez specializace | -- | kol | 2 | Volitelný | 2 | 1 | Z |
N-FIN-P | prezenční studium | --- bez specializace | -- | kol | 2 | Volitelný | 2 | 2 | Z |
Vysoké učení technické v Brně
Fakulta strojního inženýrství
Technická 2896/2,
616 69 Brno
IČ 00216305
DIČ CZ00216305
+420 541 141 111
+420 726 811 111 – GSM O2
+420 604 071 111 – GSM T-mobile