Ing. Stanislav Voborný, Ph.D.
E-mail:   voborny@fme.vutbr.cz 
Pracoviště:   Ústav fyzikálního inženýrství
Zařazení:   Odborný asistent
Místnost:   A2/509

Vzdělání a akademická kvalifikace

  • 1998, Ing., Fakulta strojního inženýrství VUT v Brně, obor Fyzikální inženýrství.
  • 2006, PhD., Vysoké učení technické v Brně, obor Fyzikální a materiálové inženýrství.

Přehled zaměstnání

  • 2001 - 2006, technik, FSI VUT v Brně.
  • 2006 - dosud, odborný asistent, FSI VUT v Brně

Vědeckovýzkumná činnost

  • Depozice tenkých vrstev, iontově svazkové systémy, iontové zdroje.

Akademické stáže v zahraničí

  • 1999 – pětiměsíční studijní pobyt v rámci programu Socrates Erasmus na Aston University (UK) ve výzkumném týmu profesora J. L. Sullivana (diagnostika plazmatu)
  • 2002 – dvouměsíční pobyt ve firmě Criolab, Porto a Instituto Superior Técnico, Lisabon, (P) (iontové naprašování, modifikace tenkých vrstev)
  • 2002 – 2008, jedno až dvoutýdenní studijní a učitelské pobyty v rámci projektu Socrates Erasmus na univerzitách v  Bari (I), Linz (A), Braga (P) a Manchester (UK)

 

 

Projekty

  • Funkční hybridní nanosystémy polovodičů a kovů s organickými látkami (2007-2011)

Aktuálně garantované předměty:

Vybrané publikace:

  • MACH, J.; ŠAMOŘIL, T.; KOLÍBAL, M.; ZLÁMAL, J.; VOBORNÝ, S.; BARTOŠÍK, M.; ŠIKOLA, T.:
    Optimization of ion-atomic beam source for deposition of GaN ultrathin films
    článek v časopise ve Web of Science, Jimp
  • MACH, J.; ŠAMOŘIL, T.; VOBORNÝ, S.; KOLÍBAL, M.; ZLÁMAL, J.; SPOUSTA, J.; DITTRICHOVÁ, L.; ŠIKOLA, T.:
    An ultra-low energy (30–200 eV) ion-atomic beam source for ion-beam-assisted deposition in ultrahigh vacuum,
    Review of Scientific Instruments, Vol.82, (2011), No.8, pp.083302-1-083302-7, ISSN 0034-6748
    článek v časopise - ostatní, Jost
  • ČECHAL, J.; MACH, J.; VOBORNÝ, S.; KOSTELNÍK, P.; BÁBOR, P.; SPOUSTA, J.; ŠIKOLA, T.:
    A study of Ga layers on Si(100)-(2x1) by SR-PES: influence of adsorbed water,
    Surface Science, Vol.601, (2007), No.9, pp.2047-2053, ISSN 0039-6028
    článek v časopise - ostatní, Jost
  • VOBORNÝ, S.; KOLÍBAL, M.; MACH, J.; ČECHAL, J.; BÁBOR, P.; PRŮŠA, S.; SPOUSTA, J.; ŠIKOLA, T.:
    Deposition and in-situ charakterization of ultra-thin films,
    Thin Solid Films, Vol.459, (2004), No.1-2, pp.17-21, ISSN 0040-6090
    článek v časopise - ostatní, Jost

Seznam publikací na portálu VUT

Anotace nejvýznamnějších prací:

  • MACH, J.; ŠAMOŘIL, T.; VOBORNÝ, S.; KOLÍBAL, M.; ZLÁMAL, J.; SPOUSTA, J.; DITTRICHOVÁ, L.; ŠIKOLA, T.:
    An ultra-low energy (30–200 eV) ion-atomic beam source for ion-beam-assisted deposition in ultrahigh vacuum,
    Review of Scientific Instruments, Vol.82, (2011), No.8, pp.083302-1-083302-7, ISSN 0034-6748
    článek v časopise - ostatní, Jost
    Článek popisuje vyvinutý nízkoenergiový (30–200 eV) iontově-atomární zdoj pro depozici s asistecí iontového svazku za podmínek velmi vyského vakua.
  • ČECHAL, J.; MACH, J.; VOBORNÝ, S.; KOSTELNÍK, P.; BÁBOR, P.; SPOUSTA, J.; ŠIKOLA, T.:
    A study of Ga layers on Si(100)-(2x1) by SR-PES: influence of adsorbed water,
    Surface Science, Vol.601, (2007), No.9, pp.2047-2053, ISSN 0039-6028
    článek v časopise - ostatní, Jost
    Studium vrstev Ga na Si(100)-(2x1) užitím SR-PES: vliv adsorbované vody
  • VOBORNÝ, S., MACH, J., KOLÍBAL, M., ČECHAL, J., BÁBOR, P., POTOČEK, M., ŠIKOLA, T.:
    A study of Early Periods of GaN Ultrathin Film Growth,
    New Trends in Pysics, pp.270-273, ISBN 80-7355-024-5, (2004), VUT v Brně
    článek ve sborníku ve WoS nebo Scopus
    akce: NTF 2004, Brno, 11.11.2004-12.11.2004
    Studium počátečních fází růstu velmi tenkých vrstev GaN.
  • VOBORNÝ, S.; MACH, J.; ČECHAL, J.; KOSTELNÍK, P.; TOMANEC, O.; BÁBOR, P.; SPOUSTA, J.; ŠIKOLA, T.:
    Application of Complex UHV Apparaturus in a Study of Low-tepmerature Gallium-nitride Ultrathin Film Growth,
    Jemná mechanika a optika, Vol.9, (2004), No.9, pp.265-269, ISSN 0447-6441
    článek v časopise - ostatní, Jost
    článek se zabývá aplikací komplexní UHV aparatury ke studiu nízkoteplotního růstu velmi tenkých vrstev nitridu gallia.
  • VOBORNÝ, S.; KOLÍBAL, M.; MACH, J.; ČECHAL, J.; BÁBOR, P.; PRŮŠA, S.; SPOUSTA, J.; ŠIKOLA, T.:
    Deposition and in-situ charakterization of ultra-thin films,
    Thin Solid Films, Vol.459, (2004), No.1-2, pp.17-21, ISSN 0040-6090
    článek v časopise - ostatní, Jost
    Článek se zabývá depozicí a in-situ charakterizace ultratenkých vrstev